快速的规格
Lumerical INTERCONNECT包括一组广泛的功能和工作流程，以及一个广泛的基本元素库，以及特定于铸造厂的PDK元素。
解决不能解决的
INTERCONNECT是Ansys Lumerical的光子集成电路模拟器
INTERCONNECT是Lumerical的光子集成电路模拟器，可验证多模式、双向和多通道pic。在我们的分层原理图编辑器中创建您的项目，您可以使用我们广泛的基本元素库，以及特定于铸造厂的PDK元素，来执行时域或频域分析。
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层次原理图编辑器
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图片元素库
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EDA的互操作性
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统计分析
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分层设计 -
瞬态块分析 -
混合信号表示 -
导入压缩库模型
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GUI和Lumerical脚本 -
瞬态样品模型模拟器 -
Electronic-Photonic联合仿真 -
行波激光模型
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频域分析 -
多模式和多通道支持 -
参数扫描 -
统计分析
有什么新鲜事
2021年R2版本对Ansys Lumerical INTERCONNECT进行了改进，以更好地支持PDK开发:
Netlist从Tanner S-Edit导入
Ansys FEEM现在包括对角线各向异性的支持。
标准格式
从Ansys Lumerical FDTD和Ansys Lumerical MODE组件模拟中导出Touchstone格式的s参数，然后导入到Lumerical INTERCONNECT中。
资源
用Ansys Lumerical INTERCONNECT验证多模、双向和多通道PICS
使用Lumerical INTERCONNECT深入体验光子集成电路仿真的特性和工作流程。可用的工作流程加快了设计时间，改善了制造结果。INTERCONNECT包含一个广泛的无源和有源构建模块库，并支持许多带有校准紧凑模型的代工厂pdk。
关键特性
在时域和频域进行光子集成电路仿真分析。
- PIC仿真与设计
- EDA和PDA的互操作性
- 统计分析
- 图片元素库
- CML开发和分发
利用INTERCONNECT的分层原理图编辑器，设计和模拟光子集成电路。INTERCONNECT包括频域分析、瞬态采样模式仿真和瞬态块模式仿真。它包括复杂的可视化和数据分析工具，支持参数扫描和设计优化。
使用熟悉的EDA设计工具和工作流程模拟和优化设计，以加快设计时间并提高可靠性。
进行转角分析，以模拟工艺变化对电路性能的影响。执行蒙特卡罗分析，评估电路性能和良率的会计过程变化
INTERCONNECT包含一个广泛的无源和有源光电模块标准库，以及支持模拟和分析结果的补充元素。它包括两个库扩展:
- 一个用于激光建模的元素库扩展
- 一个元素库扩展的高级系统建模，包括复杂的光纤，放大器，FEC编码和均衡模型
INTERCONNECT与Ansys Lumerical的设备级工具一起，为PIC仿真和设计提供了一个支持开发和分发紧凑模型库(cml)的基础设施。通常，CML是建立在实验测量数据和使用Lumerical的器件级光子工具的精确组件级模拟结果的组合上的。
案例研究
应用画廊
参考手册
Ansys软件可访问
对Ansys来说，所有用户，包括残疾人，都能访问我们的产品是至关重要的。因此，我们努力遵循基于美国访问委员会(Section 508)、Web内容可访问性指南(WCAG)和自愿产品可访问性模板(VPAT)的当前格式的可访问性要求。
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