快速的规格
Lumerical INTERCONNECT包括一组广泛的功能和工作流，具有广泛的原始元素库，以及铸造厂特定的PDK元素。
解决无法解决的问题
INTERCONNECT是Ansys Lumerical公司的光子集成电路模拟器
INTERCONNECT, Lumerical的光子集成电路模拟器，验证多模，双向和多通道pic。在我们的分层原理图编辑器中创建您的项目，您可以使用我们广泛的基本元素库，以及特定于铸造厂的PDK元素，来执行时域或频域分析。
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分层原理图编辑器
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PIC元素库
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EDA的互操作性
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统计分析
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分层设计 -
暂态块分析 -
混合信号表示 -
导入紧凑库模型
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GUI和Lumerical脚本 -
瞬态样本模型模拟器 -
Electronic-Photonic联合仿真 -
行波激光模型
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频域分析 -
多模式和多通道支持 -
参数扫描 -
统计分析
有什么新鲜事
2023 R1版本包括Ansys Lumerical INTERCONNECT的新功能，用于增强集成光子电路仿真，电子-光子设计自动化和布局驱动设计工作流程。
新的KLayout工作流
新的KLayout集成了组件级仿真工具，可以轻松导入布局。
电子光子设计自动化的新增强
改进Spectre-INTERCONNECT接口，使光电联合仿真速度提高5倍
在Virtuoso-INTERCONNECT集成的新型光学监测元件，方便探测光端口和测量输出光功率和相位
资源
验证多模，双向和多通道PICS与Ansys Lumerical INTERCONNECT
使用Lumerical INTERCONNECT体验光子集成电路仿真的深度特性和工作流程。可用的工作流程加快了设计时间并改善了制造结果。INTERCONNECT包含一个广泛的无源和有源构建模块库，并支持许多具有校准紧凑模型的铸造pdk。
关键特性
执行光子集成电路仿真，并在时域和频域进行分析。
- PIC仿真与设计
- EDA和PDA的互操作性
- 统计分析
- PIC元素库
- CML开发和分发
利用INTERCONNECT的分层原理图编辑器，设计和模拟光子集成电路。INTERCONNECT包括频域分析、瞬态采样模式仿真和瞬态块模式仿真。它包括复杂的可视化和数据分析工具，支持参数扫描和设计优化。
使用熟悉的EDA设计工具和工作流程模拟和优化您的设计，以加快设计时间并提高可靠性。
进行拐角分析，模拟工艺变化对电路性能的影响。执行蒙特卡罗分析，通过计算工艺变化来评估电路性能和良率
INTERCONNECT包含一个广泛的无源和有源光电构建模块标准库，以及能够模拟和分析结果的补充元素。它包括两个库扩展:
- 一个用于激光建模的元素库扩展
- 一个元件库扩展，用于高级系统建模，包括复杂的光纤，放大器，FEC编码和均衡模型
INTERCONNECT与Ansys Lumerical的设备级工具一起，提供了一个支持开发和分发用于PIC仿真和设计的紧凑模型库(cml)的基础设施。通常，CML是建立在实验测量数据和使用Lumerical的设备级光子学工具的精确组件级模拟结果的组合之上的。
案例研究
应用画廊
参考手册
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对于Ansys来说，所有用户，包括残疾人，都能访问我们的产品是至关重要的。因此，我们努力遵循基于美国访问委员会(Section 508)、Web内容可访问性指南(WCAG)和自愿产品可访问性模板(VPAT)当前格式的可访问性要求。
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